1.本发明涉及钕铁硼磁体处理技术领域，种钕装置作方尤其涉及一种钕铁硼磁体表面处理装置
。铁硼
背景技术：
2.钕铁硼磁体生产出来后，磁体处理钕铁硼磁体表面会出现大量的表面毛刺，为了保证钕铁硼磁体表面的种钕装置作方光滑美观，需要对钕铁硼磁体进行打磨抛光
。铁硼
3.公开号为
cn109807738a
的磁体处理中国专利公开了一种钕铁硼磁体表面处理装置，包括基座，表面所述基座的种钕装置作方下方设有多个支撑腿，所述基座的铁硼左端设有左侧板，所述左侧板的磁体处理上端设有横梁；所述基座上设有u形切槽，所述u形切槽的表面左端设有左顶紧螺杆
、
右端设有右转轴；所述左顶紧螺杆上设有左顶套，种钕装置作方所述右转轴上设有右顶套；所述横梁的铁硼上端面设有第一切槽，所述第一切槽内转动连接有第一转轴；所述横梁的磁体处理下端面上设有下端开口第二切槽；所述第二切槽内滑动连接有抛光组件；第一转轴上固定安装有转轴套；传送螺杆上固定安装有第一齿轮
、
右转轴上固定安装有第二齿轮；传送螺杆和第一转轴之间设有传动组件，上述专利虽然能够通过橡胶块将钕铁硼磁体夹紧固定，但橡胶块长时间的使用，橡胶块会出现磨损现象影响固定效果，导致钕铁硼磁体松动影响表面处理效果
。
4.本发明旨在解决上述专利中存在的问题，为此，提出一种能够通过吸盘直接将钕铁硼磁体吸住固定，防止松动，提高钕铁硼磁体表面处理效果的钕铁硼磁体表面处理装置
。
技术实现要素：
5.为了克服上述专利虽然能够通过橡胶块将钕铁硼磁体夹紧固定，但橡胶块长时间的使用，橡胶块会出现磨损现象影响固定效果，导致钕铁硼磁体松动影响表面处理效果的缺点，本发明提供一种能够通过吸盘直接将钕铁硼磁体吸住固定，防止松动，提高钕铁硼磁体表面处理效果的钕铁硼磁体表面处理装置
。
6.本发明通过以下技术途径实现：一种钕铁硼磁体表面处理装置，包括有支撑架
、
第一丝杆
、
导杆
、
滑动块
、
导向框
、
驱动电机和弹性打磨块，支撑架左右两侧上部前侧之间固定穿接有导杆，导杆上滑动式的套装有滑动块，滑动块底端滑动连接有用于对钕铁硼磁体表面进行打磨处理的弹性打磨块，支撑架左右两侧上部后之间转动式的穿接有用于带动滑动块移动的第一丝杆，第一丝杆与滑动块螺纹连接，支撑架左侧上部中间固接有驱动电机，驱动电机的输出轴与第一丝杆左侧之间通过同步带组件传动，支撑架上部四侧之间固接有导向框，还包括有固定机构和驱动机构，导向框上设置有用于将钕铁硼磁体夹紧固定的固定机构，导向框与驱动电机之间设置有用于带动固定机构转动的驱动机构
。
7.进一步的说明，固定机构包括有第二丝杆
、
固定板
、
滑动架
、
第一弹簧
、
吸盘和滑动板，导向框内左侧固接有固定板，固定板中部滑动连接有滑动架，滑动架内侧中部转动式的穿接有用于将钕铁硼磁体吸住固定的吸盘，滑动架左侧面前后两侧与固定板左侧之间连接有第一弹簧，导向框内侧滑动连接有用于将钕铁硼磁体夹紧固定的滑动板，滑动板上部中
间为转动设置，导向框左右两侧中部之间转动式的穿接有用于带动滑动板移动的第二丝杆，第二丝杆与滑动板螺纹连接
。
8.进一步的说明，驱动机构包括有弹性接触架
、
活塞缸
、
活塞架
、
第二弹簧和抽气管，导向框底部左侧中间固接有活塞缸，活塞缸内侧右部连通有用于将吸盘内的空气抽走的抽气管，抽气管尾端与吸盘中部转动连接并连通，活塞缸内侧滑动连接有活塞架，活塞架位于抽气管与活塞缸的连接处左侧，活塞架内右侧面与活塞缸外右侧面之间前后对称连接有第二弹簧，滑动板左侧面下部固接有用于带动活塞架移动的弹性接触架
。
9.进一步的说明，还包括有用于对弹性打磨块进行限位的限位机构
。
10.进一步的说明，限位机构包括有连接架
、
触发架
、
第三弹簧和斜板，弹性打磨块外侧上部固接有连接架，连接架前后两侧之间滑动式的套装有触发架，触发架与支撑架接触，触发架左侧面与连接架右侧之间前后对称连接有第三弹簧，滑动板前后两侧上部都固接有用于带动触发架向上移动的斜板，前后两侧斜板都与触发架接触
。
11.进一步的说明，还包括有用于将碎屑排出的排屑机构
。
12.进一步的说明，排屑机构包括有排料框
、
转轴
、
螺旋板
、
传动组件和单向离合器，导向框底部左右两侧之间固接有排料框，排料框右侧下部为敞口设置，排料框左侧下部转动式的穿接有转轴，转轴右侧沿周向固定套装有用于带动碎屑向右移动的螺旋板，转轴左侧设置有单向离合器，单向离合器与驱动电机的输出轴之间连接有传动组件
。
13.进一步的说明，还包括有放置板和收集箱，支撑架内前后两侧面右下侧之间固接有放置板，放置板顶部放置有用于对碎屑进行收集的收集箱
。
14.进一步的说明，还包括有刮板，弹性打磨块左右两侧面下部都固接有用于将钕铁硼磁体上附着的碎屑清除的刮板
。
15.进一步的说明，还包括有把手，第二丝杆右端固定套装有把手
。
16.本发明其显著进步在于：
1、
将钕铁硼磁体移动至与吸盘接触，再扭动把手带动第一丝杆反转，滑动板向左移动将钕铁硼磁体夹紧固定，同时，吸盘内呈真空状态将钕铁硼磁体吸住固定，再启动驱动电机，使得弹性打磨块左右移动对钕铁硼磁体表面进行打磨处理，可防止钕铁硼磁体出现松动现象影响表面处理，从而提高钕铁硼磁体表面处理的效果
。
17.2、
在限位机构的作用下，每当钕铁硼磁体表面被处理完成后，限位机构运作能够带动弹性打磨块向上移动与钕铁硼磁体脱离接触，可防止钕铁硼磁体还未固定后就与弹性打磨块接触被施压影响放置，从而方便钕铁硼磁体的放置
。
18.3、
在排屑机构的作用下，每当弹性打磨块对钕铁硼磁体表面进行打磨处理时，排屑机构运作能够将打磨过程中出现的碎屑排出收集，可防止碎屑掉落至周围影响环境，从而保证周围环境的干净整洁
。
附图说明
19.图1为本发明的立体结构示意图
。
20.图2为本发明导向框的立体结构示意图
。
21.图3为本发明打磨块的立体结构示意图
。
22.图4为本发明固定机构的立体结构示意图
。
23.图5为本发明驱动机构的部分剖视结构示意图
。
24.图6为本发明活塞缸的部分剖视结构示意图
。
25.图7为本发明限位机构的立体结构示意图
。
26.图8为本发明排屑机构的部分剖视结构示意图
。
27.图9为本发明收集箱的立体结构示意图
。
28.图
10
为本发明刮板的立体结构示意图
。
29.附图中的标记：1：支撑架，
21
：第一丝杆，
22
：导杆，
23
：滑动块，3：导向框，
31
：驱动电机，
32
：弹性打磨块，4：固定机构，
41
：第二丝杆，
42
：固定板，
43
：滑动架，
44
：第一弹簧，
45
：吸盘，
46
：把手，
47
：滑动板，5：驱动机构，
51
：弹性接触架，
52
：活塞缸，
53
：活塞架，
54
：第二弹簧，
55
：抽气管，6：限位机构，
61
：连接架，
62
：触发架，
63
：第三弹簧，
64
：斜板，7：排屑机构，
71
：排料框，
72
：转轴，
73
：螺旋板，
74
：传动组件，
75
：单向离合器，8：放置板，9：收集箱，
10
：刮板
。
具体实施方式
30.首先要指出，在不同描述的实施方式中，相同部件设有相同的附图标记或者说相同的构件名称，其中，在整个说明书中包含的公开内容能够按意义转用到具有相同的附图标记或者说相同的构件名称的相同部件上
。
在说明书中所选择的位置说明
、
例如上
、
下
、
侧向等也参考直接描述的以及示出的附图并且在位置改变时按意义转用到新的位置上
。
31.实施例1一种钕铁硼磁体表面处理装置，包括有支撑架
1、
第一丝杆
21、
导杆
22、
滑动块
23、
导向框
3、
驱动电机
31、
弹性打磨块
32、
固定机构4和驱动机构5，请参阅图
1-图6所示，支撑架1左右两侧上部前侧之间固定穿接有导杆
22
，导杆
22
上滑动式的套装有滑动块
23
，滑动块
23
底端滑动连接有弹性打磨块
32
，当弹性打磨块
32
移动时，弹性打磨块
32
可实现对钕铁硼磁体表面进行打磨处理，支撑架1左右两侧上部后之间转动式的穿接有第一丝杆
21
，第一丝杆
21
与滑动块
23
螺纹连接，当第一丝杆
21
转动时，第一丝杆
21
可实现带动滑动块
23
移动，支撑架1左侧上部中间通过螺栓连接的方式安装有驱动电机
31
，驱动电机
31
的输出轴与第一丝杆
21
左侧之间通过同步带组件传动，支撑架1上部四侧之间固接有导向框3，导向框3上设置有固定机构4，当固定机构4运作时，固定机构4可实现将钕铁硼磁体夹紧固定，导向框3与驱动电机
31
之间设置有驱动机构5，当驱动机构5运作时，驱动机构5可实现带动固定机构4转动
。
32.固定机构4包括有第二丝杆
41、
固定板
42、
滑动架
43、
第一弹簧
44、
吸盘
45、
把手
46
和滑动板
47
，请参阅图1和图4所示，导向框3内左侧通过焊接连接的方式安装有固定板
42
，固定板
42
中部滑动连接有滑动架
43
，滑动架
43
内侧中部转动式的穿接有吸盘
45
，当吸盘
45
与钕铁硼磁体接触时，吸盘
45
可实现将钕铁硼磁体吸住固定，滑动架
43
左侧面前后两侧与固定板
42
左侧之间连接有第一弹簧
44
，导向框3内侧滑动连接有滑动板
47
，当滑动板
47
向左移动与钕铁硼磁体接触时，滑动板
47
可实现将钕铁硼磁体夹紧固定，滑动板
47
上部中间为转动设置，导向框3左右两侧中部之间转动式的穿接有第二丝杆
41
，第二丝杆
41
与滑动板
47
螺纹连接，当第二丝杆
41
转动时，第二丝杆
41
可实现带动滑动板
47
移动，第二丝杆
41
右端固定套装有把手
46。
33.驱动机构5包括有弹性接触架
51、
活塞缸
52、
活塞架
53、
第二弹簧
54
和抽气管
55
，请参阅图
1、
图5和图6所示，导向框3底部左侧中间通过螺栓连接的方式安装有活塞缸
52
，活塞缸
52
内侧右部连通有抽气管
55
，抽气管
55
尾端与吸盘
45
中部转动连接并连通，抽气管
55
可实现将吸盘
45
内的空气抽走，活塞缸
52
内侧滑动连接有活塞架
53
，活塞架
53
位于抽气管
55
与活塞缸
52
的连接处左侧，活塞架
53
内右侧面与活塞缸
52
外右侧面之间前后对称连接有第二弹簧
54
，滑动板
47
左侧面下部通过螺栓连接的方式安装有弹性接触架
51
，当弹性接触架
51
向左移动与活塞架
53
接触时，弹性接触架
51
可实现带动活塞架
53
移动
。
34.首先将钕铁硼磁体移动至与吸盘
45
接触，再扭动把手
46
带动第二丝杆
41
反转，由于把手
46
的作用，能够方便的使第二丝杆
41
反转，第二丝杆
41
反转带动滑动板
47
向左移动，滑动板
47
向左移动与钕铁硼磁体接触时，滑动板
47
对钕铁硼磁体进行按压，滑动板
47
向左移动还带动弹性接触架
51
向左移动，弹性接触架
51
向左移动与活塞架
53
接触时，弹性接触架
51
带动活塞架
53
向左移动，第二弹簧
54
被压缩，由于活塞架
53
位于抽气管
55
与活塞缸
52
的连接处左侧，活塞架
53
向左移动对抽气管
55
内产生抽力，也就通过抽气管
55
将吸盘
45
内的空气抽入活塞缸
52
内，随着空气被抽走，吸盘
45
内成真空状态将钕铁硼磁体稳固的吸住，滑动板
47
通过吸盘
45
将钕铁硼磁体夹紧固定，停止扭动把手
46
带动第二丝杆
41
反转，滑动板
47
停止向左移动，弹性接触架
51
也就停止带动活塞架
53
向左移动，弹性打磨块
32
与钕铁硼磁体接触，然后启动驱动电机
31
正反交替转动，驱动电机
31
正反交替转动通过同步带组件传动带动第一丝杆
21
正反交替转动，第一丝杆
21
正反交替转动带动滑动块
23
左右移动，滑动块
23
左右移动带动弹性打磨块
32
左右移动，弹性打磨块
32
左右移动对钕铁硼磁体表面进行打磨处理，也就将钕铁硼磁体表面的毛刺清除，同时，驱动电机
31
正反交替转动还通过同步带组件传动带动吸盘
45
正反交替转动，吸盘
45
正反交替转动带动钕铁硼磁体转动，钕铁硼磁体转动被弹性打磨块
32
全面的打磨处理，当钕铁硼磁体表面都打磨处理完成后，关闭驱动电机
31
，第一丝杆
21
停止带动滑动块
23
左右移动，弹性打磨块
32
也就停止左右移动，同时，吸盘
45
也停止带动钕铁硼磁体转动，扭动把手
46
带动第二丝杆
41
正转，第二丝杆
41
带动滑动板
47
向右移动与钕铁硼磁体脱离接触，且滑动板
47
还带动弹性接触架
51
向右移动复位，弹性接触架
51
复位不对活塞架
53
进行限位，因第二弹簧
54
的作用，活塞架
53
向右移动复位将活塞缸
52
内的空气推入抽气管
55
内，抽气管
55
内的空气排入吸盘
45
内，吸盘
45
停止将钕铁硼磁体吸住，将表面处理完成后的钕铁硼磁体取下进行后续处理
。
如此，通过吸盘
45
直接将钕铁硼磁体吸住固定，可防止钕铁硼磁体出现松动现象影响表面处理，从而提高钕铁硼磁体表面处理的效果
。
35.实施例2在实施例1的基础上，还包括有限位机构6，限位机构6包括有连接架
61、
触发架
62、
第三弹簧
63
和斜板
64
，请参阅图1和图7所示，弹性打磨块
32
外侧上部通过焊接连接的方式安装有连接架
61
，连接架
61
前后两侧之间滑动式的套装有触发架
62
，触发架
62
与支撑架1接触，触发架
62
左侧面与连接架
61
右侧之间前后对称连接有第三弹簧
63
，滑动板
47
前后两侧上部都固接有斜板
64
，前后两侧斜板
64
都与触发架
62
接触，当斜板
64
复位时，斜板
64
可实现带动触发架
62
向上移动
。
36.还包括有排屑机构7，排屑机构7包括有排料框
71、
转轴
72、
螺旋板
73、
传动组件
74
和单向离合器
75
，请参阅图1和图8所示，导向框3底部左右两侧之间通过焊接连接的方式安
装有排料框
71
，排料框
71
右侧下部为敞口设置，排料框
71
左侧下部转动式的穿接有转轴
72
，转轴
72
右侧沿周向固定套装有螺旋板
73
，当螺旋板
73
正转时，螺旋板
73
可实现带动碎屑向右移动，转轴
72
左侧设置有单向离合器
75
，单向离合器
75
与驱动电机
31
的输出轴之间连接有传动组件
74
，传动组件
74
由两个皮带轮与平皮带组成，其中一个皮带轮固定套装于驱动电机
31
的输出轴上，另一个皮带轮固定套装于单向离合器
75
上，平皮带绕在两个皮带轮之间
。
37.初始时，弹性打磨块
32
为压缩状态，当钕铁硼磁体与吸盘
45
接触时，扭动把手
46
带动第二丝杆
41
反转，也就使得滑动板
47
向左移动，滑动板
47
向左移动带动斜板
64
向左移动，斜板
64
向左移动与触发架
62
脱离接触，因弹性打磨块
32
的弹性作用，弹性打磨块
32
向下移动与钕铁硼磁体接触，且弹性打磨块
32
带动连接架
61
向下移动，连接架
61
向下移动带动触发架
62
向下移动，进而弹性打磨块
32
左右移动对钕铁硼磁体表面进行打磨处理时，弹性打磨块
32
带动连接架
61
左右移动，连接架
61
左右移动使得第三弹簧
63
不断的伸缩，当钕铁硼磁体表面处理完成后，扭动把手
46
带动第二丝杆
41
正转使得滑动板
47
向右移动复位，滑动板
47
复位带动斜板
64
向右移动复位，斜板
64
复位带动触发架
62
向上移动复位，触发架
62
向上移动复位通过连接架
61
带动弹性打磨块
32
向上移动复位，弹性打磨块
32
复位与钕铁硼磁体脱离接触
。
如此，可防止钕铁硼磁体还未固定后就与弹性打磨块
32
接触被施压影响放置，从而方便钕铁硼磁体的放置
。
38.当驱动电机
31
启动时，弹性打磨块
32
左右移动对钕铁硼磁体表面进行打磨处理，打磨过程中出现的碎屑掉落至排料框
71
内，碎屑与螺旋板
73
接触，将收集容器放在排料框
71
右下方，同时，驱动电机
31
正反交替转动还带动传动组件
74
正反交替转动，传动组件
74
正转通过单向离合器
75
带动转轴
72
正转，转轴
72
正转带动螺旋板
73
正转，螺旋板
73
正转带动碎屑向右移动从排料框
71
排出，排出的碎屑掉落至收集容器内，当传动组件
74
反转时，传动组件
74
反转带动单向离合器
75
空转，单向离合器
75
停止带动转轴
72
反转，螺旋板
73
也就停止反转，如此反复，螺旋板
73
不断的正转能够带动碎屑向右移动排出收集
。
当驱动电机
31
关闭时，传动组件
74
停止通过单向离合器
75
带动转轴
72
正转，转轴
72
停止带动螺旋板
73
正转，将收集容器拿起对收集的碎屑进行处理
。
如此，可防止碎屑掉落至周围影响环境，从而保证周围环境的干净整洁
。
39.实施例3在实施例1和实施例2的基础上，还包括有放置板8和收集箱9，请参阅图9所示，支撑架1内前后两侧面右下侧之间通过焊接连接的方式安装有放置板8，放置板8顶部放置有收集箱9，当碎屑掉落时，收集箱9可实现对碎屑进行收集
。
40.还包括有刮板
10
，请参阅图
10
所示，弹性打磨块
32
左右两侧面下部都固接有刮板
10
，当刮板
10
移动时，刮板
10
可实现将钕铁硼磁体上附着的碎屑清除
。
41.当螺旋板
73
正转将碎屑从排料框
71
排出时，碎屑掉落至收集箱9内，收集箱9对碎屑进行收集
。
当螺旋板
73
停止正转时，即可将收集箱9从放置板8上拿下对碎屑进行处理，碎屑全部倒出后，将收集箱9放回至放置板8上
。
如此，无需使用到额外的收集容器，从而更方便的对碎屑进行收集处理
。
42.当弹性打磨块
32
左右移动对钕铁硼磁体表面进行打磨处理时，弹性打磨块
32
左右移动带动刮板
10
左右移动，刮板
10
左右移动将钕铁硼磁体表面附着的碎屑清除
。
当弹性打
磨块
32
停止左右移动时，弹性打磨块
32
停止带动刮板
10
左右移动
。
如此，可防止钕铁硼磁体表面上附着大量的碎屑影响后续使用，从而保证钕铁硼磁体表面的干净
。
43.最后，有必要说明的是：上述内容仅用于帮助理解本发明的技术方案，不能理解为对本发明保护范围的限制；本领域技术人员根据本发明的上述内容所做出的非本质改进和调整，均属本发明所要求保护的范围
。